Invention Grant
- Patent Title: 阵列基板及其制作方法、显示装置
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Application No.: CN201810001653.XApplication Date: 2018-01-02
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Publication No.: CN108153072BPublication Date: 2021-02-02
- Inventor: 房毛毛 , 李正勋 , 宋泳珍 , 杨子衡 , 沈世妃 , 李盛荣
- Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方显示技术有限公司
- Applicant Address: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- Assignee: 京东方科技集团股份有限公司,合肥京东方显示技术有限公司
- Current Assignee: 京东方科技集团股份有限公司,合肥京东方显示技术有限公司
- Current Assignee Address: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- Agency: 北京银龙知识产权代理有限公司
- Agent 黄灿; 张博
- Main IPC: G02F1/136
- IPC: G02F1/136
Abstract:
本发明提供了一种阵列基板及其制作方法、显示装置，属于显示技术领域。其中，所述阵列基板包括位于衬底基板上的第一金属图形和覆盖所述第一金属图形的绝缘层，所述绝缘层形成有用于导流取向液的导流槽，所述导流槽在所述衬底基板上的正投影完全落入所述第一金属图形在所述衬底基板上的正投影内。本发明的技术方案能够提高阵列基板的良率和寿命，同时可以确保导流槽的功能。
Public/Granted literature
- CN108153072A 阵列基板及其制作方法、显示装置 Public/Granted day:2018-06-12
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IPC分类:
