发明公开
- 专利标题: 高电子迁移率晶体管器件
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申请号: CN201711261540.5申请日: 2017-12-04
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公开(公告)号: CN108155232A公开(公告)日: 2018-06-12
- 发明人: 艾曼·谢比卜 , 凯尔·特里尔
- 申请人: 维西埃-硅化物公司
- 申请人地址: 美国加利福尼亚州
- 专利权人: 维西埃-硅化物公司
- 当前专利权人: 维西埃-硅化物公司
- 当前专利权人地址: 美国加利福尼亚州
- 代理机构: 北京市磐华律师事务所
- 代理商 高伟; 娄晓丹
- 优先权: 62/429,627 2016.12.02 US
- 主分类号: H01L29/778
- IPC分类号: H01L29/778 ; H01L21/336
摘要:
本发明公开了高电子迁移率晶体管器件。一种器件包括第一高电子迁移率晶体管(HEMT)和第二HEMT。第一HEMT包括第一栅极、耦合到第一栅极的源极以及耦合到第一栅极的漏极。第二HEMT包括耦合到源极和漏极的第二栅极。第二HEMT具有比第一HEMT更低的阈值电压。
公开/授权文献
- CN108155232B 高电子迁移率晶体管器件 公开/授权日:2022-02-08
IPC分类: