发明授权
- 专利标题: 一种顶部籽晶导热的硒化镉单晶气相生长方法
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申请号: CN201711434604.7申请日: 2017-12-26
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公开(公告)号: CN108166063B公开(公告)日: 2019-07-16
- 发明人: 宋梁成 , 朱崇强 , 雷作涛 , 杨春晖 , 赵丹洋
- 申请人: 哈尔滨工业大学
- 申请人地址: 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号
- 专利权人: 哈尔滨工业大学
- 当前专利权人: 黑龙江省工研院资产经营管理有限公司
- 当前专利权人地址: 150027 黑龙江省哈尔滨市高新技术产业开发区科技创新城创新创业广场9号楼中源大道14955号1单元412室
- 代理机构: 哈尔滨市松花江专利商标事务所
- 代理商 贾泽纯
- 主分类号: C30B29/48
- IPC分类号: C30B29/48 ; C30B23/00 ; C30B27/00
摘要:
一种顶部籽晶导热的硒化镉单晶气相生长方法,它涉及一种硒化镉单晶气相生长方法。本发明目的是要解决现有的生长CdSe晶体的高压布里奇曼法设备复杂,且易发生爆炸,而温梯熔体区熔法与气相提拉法的晶向不可控、光学品质差的问题。一种顶部籽晶导热的硒化镉单晶气相生长方法:一、制备籽晶片;二、装料得到装料密封石英管;三、晶体生长:①、活化;②、生长;四、后处理,在籽晶片表面得到硒化镉单晶体。优点:中远红外波段的透过率达到65%以上。本发明主要用于硒化镉单晶气相生长。
公开/授权文献
- CN108166063A 一种顶部籽晶导热的硒化镉单晶气相生长方法 公开/授权日:2018-06-15
IPC分类: