发明公开
CN108285545A 层积体、阻气膜及其制造方法
无效 - 撤回
- 专利标题: 层积体、阻气膜及其制造方法
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申请号: CN201810165571.9申请日: 2013-10-18
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公开(公告)号: CN108285545A公开(公告)日: 2018-07-17
- 发明人: 佐藤尽 , 加纳满
- 申请人: 凸版印刷株式会社
- 申请人地址: 日本东京
- 专利权人: 凸版印刷株式会社
- 当前专利权人: 凸版印刷株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京
- 代理机构: 北京天昊联合知识产权代理有限公司
- 代理商 常海涛; 孙微
- 优先权: 2012-230658 2012.10.18 JP
- 主分类号: C08J7/04
- IPC分类号: C08J7/04 ; C08J7/06 ; C08L67/02
摘要:
一种层积体(1),其具有:基材(2),在所述基材(2)的外面的至少一部分上形成、含有具有官能团的有机高分子、且以膜或薄膜形状形成的底涂层(3),以及含有成为原料的前体(6)、以覆盖所述底涂层(3)的表面的方式形成、且所述前体(6)的至少一部分键合于所述官能团的原子层沉积膜(4),其中,具有所述基材(2)和所述底涂层(3)的层状薄膜的线膨胀系数为1.0×10-5/K以上8.0×10-5/K以下。