本发明公开一种玻璃熔窑用高温高辐射率硅砖及其制备方法，所述硅砖包括硅砖主体，硅砖主体表面涂覆有纳米红外涂层；硅砖主体包括不同级配的硅质原料、矿化剂、复合添加剂与碳化硅；纳米红外涂层包含硅质高辐射基料、硅微粉，硼化硅、氮化硅、硅溶胶、助剂与去离子水；本硅砖通过配料、混练、成型、干燥、喷涂、表干、烧结一系列步骤制备得到；本发明的硅砖表面覆有一层纳米级高辐射率红外涂层，该涂层经高温烧结后牢固地附于硅砖主体的表面，并部分渗透进硅砖主体，能够显著提高硅砖在高温下的辐射率，强化玻璃窑内辐射传热，实现节能减排效益；另外，致密涂层也可以起到保护硅砖，延长硅砖使用寿命的作用。