Invention Grant
- Patent Title: 一种光学反射率表面处理方法
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Application No.: CN201810364034.7Application Date: 2018-04-23
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Publication No.: CN108441914BPublication Date: 2019-09-03
- Inventor: 王南南 , 温武警 , 谭锦升
- Applicant: 国泰达鸣精密机件(深圳)有限公司
- Applicant Address: 广东省深圳市龙华区福城办事处茜坑社区佰公坳工业区A区二号
- Assignee: 国泰达鸣精密机件(深圳)有限公司
- Current Assignee: 国泰达鸣精密科技集团有限公司
- Current Assignee Address: 518110 广东省深圳市龙华区福城办事处茜坑社区佰公坳工业区A区二号
- Agency: 深圳英聚知识产权代理事务所
- Agent 林俊远
- Main IPC: C25D11/02
- IPC: C25D11/02
Abstract:
一种光学反射率表面处理方法,对产品的处理包括以下步骤:将产品放置到产品固定架后,经由脱脂和水洗工序去除产品表面油污,清洁产品;进行一次阳极氧化处理,一次阳极氧化采用硫酸溶液对产品进行阳极氧化;一次阳极氧化后进行水洗,然后用碱性溶液中和,再经由水洗清洁;进行封闭预处理,封闭预处理采用活性剂对产品进行处理;封闭预处理后进行中和和水洗处理;进行二次阳极氧化处理,二次阳极氧化采用硫酸溶液对产品进行阳极氧化;二次阳极氧化处理后进行水洗和中和,然后再水洗的处理;进行封闭处理,封闭处理采用氟化镍和活性剂对产品进行处理;封闭处理后进行清洗烘干以及外观检测,然后将产品进行封装,有效降低了产品表面光学反射率。
Public/Granted literature
- CN108441914A 一种光学反射率表面处理方法 Public/Granted day:2018-08-24
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