本公开内容提供了一种用于在真空沉积工艺中保持基板(10)的设备(100)。设备(100)包括：支撑表面(112)；电极布置(120)，所述电极布置(120)具有多个电极(122)，所述电极布置(120)经构造以提供作用在基板(10)和掩模(20)中的至少一者上的吸引力；和控制器(130)，所述控制器(130)经构造以将第一电压极性配置和不同于第一电压极性配置的第二电压极性配置应用到电极布置(120)，其中控制器(130)经构造以在第一电压极性配置与第二电压极性配置之间切换。