- 专利标题: 用基片导引的重建光束工业产生体积反射全息图的设备和方法
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申请号: CN201680075548.X申请日: 2016-12-19
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公开(公告)号: CN108475037B公开(公告)日: 2021-09-14
- 发明人: C·瑞维兹 , R·哈根 , T·法克 , G·沃尔兹 , F-K·布鲁德
- 申请人: 科思创德国股份有限公司
- 申请人地址: 德国勒沃库森
- 专利权人: 科思创德国股份有限公司
- 当前专利权人: 科思创德国股份有限公司
- 当前专利权人地址: 德国勒沃库森
- 代理机构: 北京北翔知识产权代理有限公司
- 代理商 郑建晖; 关丽丽
- 优先权: 15202173.9 20151222 EP
- 国际申请: PCT/EP2016/081766 2016.12.19
- 国际公布: WO2017/108704 DE 2017.06.29
- 进入国家日期: 2018-06-22
- 主分类号: G03H1/20
- IPC分类号: G03H1/20 ; G03H1/04 ; G02B1/111
摘要:
本发明涉及用基片导引的重建光束产生体积反射全息图的设备(200,300,400,600),包括:至少一个透明的、平面的载体元件(210,310,410,610),其包括第一平坦侧(210.1)和另一平坦侧(210.2);至少一个主元件(206,306,406,606),其能够布置在所述载体元件(210,310,410,610)的所述第一平坦侧(210.1)处;以及至少一个光学输入耦合元件(102,202,302,402,602),其被配置为光学地耦合光束(214,216),其中设置至少一个耦合部分(104,204,304,404,604),其被配置为在所述输入耦合元件(102,202,302,402)和能够设置在所述载体元件(210,310,410)的所述另一平坦侧(210.2)上的至少一个全息记录介质(208,308,408)之间机械地建立光学接触,或被配置为在所述载体元件(610)的所述另一平坦侧和能够设置在所述光学输入耦合元件(602)的平坦侧(605)上的至少一个全息记录介质(608)之间机械地建立光学接触,其中至少所述耦合部分(104,204,304,404,604)由具有1000Pa和50MPa之间、优选地30,000Pa和30MPa之间的剪切模量的材料形成。
公开/授权文献
- CN108475037A 用基片导引的重建光束工业产生体积反射全息图的设备和方法 公开/授权日:2018-08-31