发明授权
- 专利标题: 固态氢靶系统和使用它的激光离子源
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申请号: CN201810243546.8申请日: 2018-03-23
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公开(公告)号: CN108511314B公开(公告)日: 2020-01-24
- 发明人: 孙良亭 , 赵环昱 , 沈叮叮 , 张俊杰
- 申请人: 中国科学院近代物理研究所
- 申请人地址: 甘肃省兰州市城关区南昌路509号
- 专利权人: 中国科学院近代物理研究所
- 当前专利权人: 中国科学院近代物理研究所
- 当前专利权人地址: 甘肃省兰州市城关区南昌路509号
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 谢海燕
- 主分类号: H01J49/10
- IPC分类号: H01J49/10 ; H01J49/06 ; A61N5/10
摘要:
本发明提供了固态氢靶系统及使用它的激光离子源,该固态氢靶系统包括:气体固化基座;气体固化坑,其作为冷冻靶位于气体固化基座的中央部;吸附罩,其围绕着气体固化基座,且该吸附罩的内表面粘贴有活性炭;其中,在固态氢靶系统所在的真空腔室为基础真空度的状态下,当从正对着气体固化坑的喷嘴即氢气出气口喷出预冷的氢气,该氢气立刻在冷冻靶凝结沉积而形成固体氢靶,对固态氢靶的靶面进行激光打靶,所气化的氢气由活性炭快速吸收,由此,有效维持了真空腔室的基础真空度,保证了激光打靶重复率,而使质子产生稳定性提高。
公开/授权文献
- CN108511314A 固态氢靶系统和使用它的激光离子源 公开/授权日:2018-09-07