本发明公开了一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，包括真空镀膜室、抽真空装置、加热器、弧源发生器和涨缩头，涨缩头包括放卷涨缩头和收卷涨缩头，带材缠绕在放卷涨缩头上，带材的端部穿入真空镀膜室连接到收卷涨缩头，真空镀膜室分别连接抽真空装置，通过抽真空装置对真空镀膜室抽真空，真空镀膜室内设置加热器，弧源发生器均匀分布在真空镀膜室上，通过加热器对真空镀膜室加热后弧源发生器向带材溅射金属离子，弧源发生器与带材之间安装进气管，气体通过进气管流入真空镀膜室后与金属离子发生作用沉积在带材表面。该镀膜系统实现了带材的连续单双面单一或复合膜层的沉积，应用范围非常广泛，可满足各种镀层需求。