发明公开
CN108700804A 具有高介电常数的可光成像薄膜
无效 - 撤回
- 专利标题： 具有高介电常数的可光成像薄膜
- 专利标题（英）： PHOTO-IMAGEABLE THIN FILMS WITH HIGH DIELECTRIC CONSTANTS
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申请号： CN201680070805.0申请日： 2016-12-07
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公开(公告)号： CN108700804A公开(公告)日： 2018-10-23
- 发明人: C·沃尔福-古普塔 , Y·饶 , S·韩 , 羽贺满 , W·H·H·伍德沃德
- 申请人： 陶氏环球技术有限责任公司 , 罗门哈斯电子材料韩国有限公司 , 罗门哈斯电子材料有限责任公司
- 申请人地址： 美国密歇根州; ;
- 专利权人： 陶氏环球技术有限责任公司,罗门哈斯电子材料韩国有限公司,罗门哈斯电子材料有限责任公司
- 当前专利权人： 陶氏环球技术有限责任公司,罗门哈斯电子材料韩国有限公司,罗门哈斯电子材料有限责任公司
- 当前专利权人地址： 美国密歇根州; ;
- 代理机构： 上海专利商标事务所有限公司
- 代理商 钱文宇; 陈哲锋
- 优先权： 62/268540 20151217 US
- 国际申请： PCT/US2016/065227 2016.12.07
- 国际公布： WO2017/105938 EN 2017.06.22
- 进入国家日期： 2018-06-01
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; G03F7/038
摘要：
一种用于制备可光成像膜的制剂；所述制剂包含：(a)负性光致抗蚀剂，其包含：(i)具有环氧基的丙烯酸粘合剂和(ii)光活性物质；以及(b)官能化氧化锆纳米颗粒。
IPC分类:
