Invention Publication
- Patent Title: 用于制造存储器的方法、存储器以及该存储器的应用
-
Application No.: CN201780014562.3Application Date: 2017-03-08
-
Publication No.: CN108780842APublication Date: 2018-11-09
- Inventor: A.亚库申科 , R.富纳里 , K.J.克劳泽 , J.H.施尼特克 , D.迈尔 , N.Y.阿德利哈桑 , A.奥芬霍伊泽
- Applicant: 于利奇研究中心有限公司
- Applicant Address: 德国于利奇
- Assignee: 于利奇研究中心有限公司
- Current Assignee: 于利奇研究中心有限公司
- Current Assignee Address: 德国于利奇
- Agency: 中国专利代理(香港)有限公司
- Agent 胡莉莉; 刘春元
- Priority: 102016003461.0 2016.03.23 DE
- International Application: PCT/DE2017/000063 2017.03.08
- International Announcement: WO2017/162222 DE 2017.09.28
- Date entered country: 2018-08-31
- Main IPC: H01L51/05
- IPC: H01L51/05 ; H01L51/10 ; H01L51/00 ; G11C13/00
Abstract:
本发明涉及用于制造电化学存储器的方法,其特征在于如下步骤:a)提供不导电的衬底;b)将由导电材料构成的第一印制导线布置在该衬底上;c)将具有氧化还原活性分子的多孔介电层点状地布置到第一印制导线上;d)与第一印制导线正交地布置第二印制导线,其中这些印制导线在交叉点处具有电极功能,在所述电极功能之间布置介电层;e)将钝化层布置到衬底、第一印制导线、介电层和第二印制导线上,其中第一和第二印制导线在它们的交叉点处与布置在其间的介电层构造出存储器,在该存储器中,通过经由印制导线施加电压来驱动氧化还原活性分子在电极上的氧化还原反应,从而产生一个比特。公开了不同的存储器及其应用。
Information query
IPC分类: