发明公开
CN108807378A 鳍式场效应管及其形成方法
无效 - 驳回
- 专利标题: 鳍式场效应管及其形成方法
- 专利标题(英): Fin field-effect transistor and forming method thereof
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申请号: CN201710311016.8申请日: 2017-05-05
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公开(公告)号: CN108807378A公开(公告)日: 2018-11-13
- 发明人: 周飞
- 申请人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 , 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
- 申请人地址: 上海市浦东新区张江路18号;
- 专利权人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
- 当前专利权人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
- 当前专利权人地址: 上海市浦东新区张江路18号;
- 代理机构: 北京集佳知识产权代理有限公司
- 代理商 吴敏
- 主分类号: H01L27/088
- IPC分类号: H01L27/088 ; H01L21/8234
摘要:
本发明提供一种鳍式场效应管及其形成方法,所述形成方法包括:提供衬底,所述衬底包括第一器件区和第二器件区,且所述衬底上具有多个分立的鳍部;形成横跨所述鳍部的伪栅极;在所述伪栅极露出的鳍部上形成层间介质层,所述层间介质层露出所述伪栅极;去除所述伪栅极在所述层间介质层内形成第一开口;形成填充满所述第一开口的初始金属栅极;对所述初始金属栅极进行图形化处理,在所述初始金属栅极内形成第二开口,在沿垂直于衬底表面的方向上,所述第二开口贯穿所述初始金属栅极;在所述第一器件区形成第一金属栅极,在所述第二器件区形成第二金属栅极。本发明形成的鳍式场效应管电学性能得到提高。
IPC分类: