发明公开
- 专利标题: 量子点膜及其制备方法
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申请号: CN201810392639.7申请日: 2018-04-27
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公开(公告)号: CN108819399A公开(公告)日: 2018-11-16
- 发明人: 唐安斌 , 王允军 , 马卜 , 江涌
- 申请人: 苏州星烁纳米科技有限公司 , 四川东材科技集团股份有限公司
- 申请人地址: 江苏省苏州市工业园区金鸡湖大道99号纳米城NW06-403
- 专利权人: 苏州星烁纳米科技有限公司,四川东材科技集团股份有限公司
- 当前专利权人: 苏州星烁纳米科技有限公司,四川东材科技集团股份有限公司
- 当前专利权人地址: 江苏省苏州市工业园区金鸡湖大道99号纳米城NW06-403
- 主分类号: B32B27/06
- IPC分类号: B32B27/06 ; B32B27/36 ; B32B27/18 ; C08G63/183 ; B32B37/02
摘要:
本申请提供一种量子点膜的制备方法,包括:步骤一,将对苯二甲酸和乙二醇酯化,得到第一中间体;步骤二,将所述第一中间体缩聚,得到第二中间体;步骤三,将所述第二中间体缩聚形成聚对苯二甲酸乙二醇酯;步骤四,使用所述聚对苯二甲酸乙二醇酯制备量子点膜的发光层,在所述发光层的两侧形成保护层,由此制备量子点膜;其中,在所述第一中间体和/或所述第二中间体中加入量子点。本申请中量子点膜的制备工艺简单,制备得到的量子点膜发光均匀、且量子点能保持高发光效率。
公开/授权文献
- CN108819399B 量子点膜及其制备方法 公开/授权日:2022-03-04