Invention Grant
- Patent Title: 导电叠层结构及其制造方法、显示装置
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Application No.: CN201810703765.XApplication Date: 2018-06-30
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Publication No.: CN108845705BPublication Date: 2021-05-07
- Inventor: 来宇浩
- Applicant: 广州国显科技有限公司
- Applicant Address: 广东省广州市增城区永宁街香山大道2号(增城经济技术开发区核心区内)
- Assignee: 广州国显科技有限公司
- Current Assignee: 广州国显科技有限公司
- Current Assignee Address: 广东省广州市增城区永宁街香山大道2号(增城经济技术开发区核心区内)
- Agency: 上海思微知识产权代理事务所
- Agent 周耀君
- Main IPC: G06F3/041
- IPC: G06F3/041
Abstract:
本发明提出了一种导电叠层结构及其制造方法、显示装置，通过在基材上制备出诱导配向结构，以利用所述诱导配向结构引导纳米银线的形成方向，使得纳米银线在预设的方向上交叉搭接，并构成纳米银线薄膜。本方法能够在保证纳米银线薄膜低雾度的前提下，提高纳米银线薄膜的导电性，使得制备出的导电叠层结构具有更优的触控性能以及更佳的应用前景。
Public/Granted literature
- CN108845705A 导电叠层结构及其制造方法、显示装置 Public/Granted day:2018-11-20
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