发明授权
- 专利标题: 一种氮化镓基高电子迁移率晶体管
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申请号: CN201810685086.4申请日: 2018-06-28
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公开(公告)号: CN108878524B公开(公告)日: 2020-06-12
- 发明人: 杜江锋 , 汪浩 , 刘勇 , 白智元 , 辛奇 , 于奇
- 申请人: 电子科技大学
- 申请人地址: 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号
- 专利权人: 电子科技大学
- 当前专利权人: 电子科技大学
- 当前专利权人地址: 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号
- 代理机构: 成都点睛专利代理事务所
- 代理商 葛启函
- 主分类号: H01L29/778
- IPC分类号: H01L29/778 ; H01L21/335 ; H01L29/06
摘要:
一种氮化镓基高电子迁移率晶体管,属于半导体器件技术领域。本发明通过在传统GaNHEMT器件的栅极与漏极之间形成具有整流作用的横向肖特基二极管,以此作为耐压结构来调制器件表面电场,优化横向电场分布,从而达到提高器件击穿电压的目的;同时,横向肖特基二极管的存在还可以在阻断状态下承受一定反向电压,在正向导通状态下避免栅极加正压时栅极产生过大的泄漏电流,保证了器件的正向电流能力;此外,本发明相比场板结构不会引入附加的寄生电容,保证了器件的工作频率和开关速度,提高了器件的可靠性。
公开/授权文献
- CN108878524A 一种氮化镓基高电子迁移率晶体管 公开/授权日:2018-11-23
IPC分类: