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包含UV吸收膜的密封装置
Abstract:
本文公开了密封装置,其包含第一基材、第二基材、位于第一基材与第二基材之间的无机膜以及至少一个位于第一基材与第二基材之间的结合部。无机膜可包含约10~80摩尔%的B2O3、约5~60摩尔%的Bi2O3和约0~70摩尔%的ZnO。本文还公开了使用这种无机膜对装置进行密封的方法以及包含这些密封装置的显示器和电子组件。
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