发明授权
CN108899433B 空穴传输层、其制备方法及半导体光电器件
失效 - 权利终止
- 专利标题: 空穴传输层、其制备方法及半导体光电器件
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申请号: CN201810787349.2申请日: 2018-07-17
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公开(公告)号: CN108899433B公开(公告)日: 2020-06-16
- 发明人: 陈雨
- 申请人: 嘉兴纳鼎光电科技有限公司
- 申请人地址: 浙江省嘉兴市海宁经济开发区双联路128号3号创业楼3楼东
- 专利权人: 嘉兴纳鼎光电科技有限公司
- 当前专利权人: 嘉兴纳鼎光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 浙江省嘉兴市海宁经济开发区双联路128号3号创业楼3楼东
- 代理机构: 南京利丰知识产权代理事务所
- 代理商 叶蕙; 王锋
- 主分类号: H01L51/50
- IPC分类号: H01L51/50 ; H01L51/54 ; H01L51/56
摘要:
本发明公开了一种空穴传输层,所述空穴传输层的材质包括P型半导体材料,所述p型半导体材料为掺杂低价态金属元素的钙钛矿材料,所述低价态金属元素的价态为+1价。所述空穴传输层的制备方法包括:将M1X2、M2X及有机溶剂混合反应得到混合反应液;形成薄膜层;一次退火处理;薄膜层置入含AX的有机溶液,经清洗、二次退火处理,形成空穴传输层。本发明还公开了一种半导体光电器件,所述半导体光电器件包括空穴传输层。本发明另公开了一种半导体光电器件的制备方法,包括制备空穴传输层的步骤,并公开一种量子点发光二极管器件的制作方法,包括制备第一电极、空穴注入层、空穴传输层、量子点发光层、电子传输层及第二电极的步骤。
公开/授权文献
- CN108899433A 空穴传输层、其制备方法及半导体光电器件 公开/授权日:2018-11-27
IPC分类: