发明公开
- 专利标题: 掩膜板及蒸镀设备
- 专利标题(英): Mask and evaporation equipment
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申请号: CN201811258159.8申请日: 2018-10-26
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公开(公告)号: CN109055893A公开(公告)日: 2018-12-21
- 发明人: 杜森 , 吴建鹏 , 嵇凤丽
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 代理机构: 北京天昊联合知识产权代理有限公司
- 代理商 刘悦晗; 陈源
- 主分类号: C23C14/04
- IPC分类号: C23C14/04 ; C23C14/24
摘要:
本发明提供一种掩膜板及蒸镀设备,所述掩膜板包括本体和设置在所述本体上的镂空部,还包括至少一个延伸部,所述延伸部与所述本体共面且与所述本体的至少一侧相连并沿第一方向延伸,至少部分所述延伸部与所述镂空部相对应,所述第一方向为与所述掩膜板的拉伸方向垂直的方向。在掩膜板使用过程中,掩膜板会沿第一方向内缩发生形变,延伸部可以补偿形变量,确保镂空部仍然保持在预设位置,从而提高掩膜板与背板的对位精度,降低产品混色不良的几率;本发明可以在产品制程中自动补偿掩膜板的形变量,无需中断制程,从而提高生产效率;而且,延伸部还可以在一定程度上降低掩膜板镂空部位置的设计精度要求,降低工艺成本。
公开/授权文献
- CN109055893B 掩膜板及蒸镀设备 公开/授权日:2021-04-20
IPC分类: