• 专利标题: 一种利用高能等离子体轰击工件表面并形成光滑镀层的设备
  • 专利标题(英): Equipment for bombarding surface of workpiece through energetic plasma and forming smooth plating layer
  • 申请号: CN201810990123.2
    申请日: 2018-08-28
  • 公开(公告)号: CN109055909A
    公开(公告)日: 2018-12-21
  • 发明人: 余泽军
  • 申请人: 余泽军
  • 申请人地址: 广东省广州市天河区五山路381号华南理工大学
  • 专利权人: 余泽军
  • 当前专利权人: 广东腾胜科技创新有限公司
  • 当前专利权人地址: 广东省广州市天河区五山路381号华南理工大学
  • 主分类号: C23C14/35
  • IPC分类号: C23C14/35 C23C14/50
一种利用高能等离子体轰击工件表面并形成光滑镀层的设备
摘要:
本发明属于镀膜技术领域,具体的说是一种利用高能等离子体轰击工件表面并形成光滑镀层的设备,包括外壳体、内壳体、工作台、靶材、电机、旋转轴、一号轴承、固定环、永磁铁、转动杆、推力轴承、环形磁铁、弹簧、挡板、磁性隔离模块,本发明通过在旋转轴上端的圆柱面上设置一组永磁铁,在固定环的上下端各设置一个推力轴承,在固定环的内侧圆柱面上设置一组永磁铁,在旋转轴上端与固定环之间设置磁性隔离模块,通过磁性隔离模块实现转动杆上的环形磁铁不断进行往复运动,进而使得加载到靶材上的磁场变得均匀,保证了靶材能够均匀的消耗,避免了靶材的浪费,同时使得待镀工件的镀层变得均匀,进而保证了镀件的质量。
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