发明授权
- 专利标题: 投影及纹影二合一光学测试系统
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申请号: CN201811138868.2申请日: 2018-09-28
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公开(公告)号: CN109141835B公开(公告)日: 2019-12-24
- 发明人: 麦绿波
- 申请人: 中国兵器工业标准化研究所
- 申请人地址: 北京市海淀区车道沟10号院
- 专利权人: 中国兵器工业标准化研究所
- 当前专利权人: 中国兵器工业标准化研究所
- 当前专利权人地址: 北京市海淀区车道沟10号院
- 代理机构: 中国兵器工业集团公司专利中心
- 代理商 王雪芬
- 主分类号: G01M11/04
- IPC分类号: G01M11/04
摘要:
本发明涉及投影及纹影二合一光学测试系统,涉及投影及纹影光学测试技术领域。本发明在一套测试系统中,通过应用两个透镜移动的光学特性组合,分别形成投影望远光学系统和纹影照相光学系统,实现了一套光学系统装置具有投影光学系统和纹影光学两种功能。本发明使需要应用两种不同光学原理建立的两种光学测试功能的装置在一个装置中实现,大大节省了测试装置的设计和制造费用,同时增加测试装置的功能,方便了测试工作的开展,节省了测试设备的放置空间。
公开/授权文献
- CN109141835A 投影及纹影二合一光学测试系统 公开/授权日:2019-01-04