发明授权
- 专利标题: 快恢复二极管及制备方法、电子设备
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申请号: CN201710462474.1申请日: 2017-06-19
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公开(公告)号: CN109148605B公开(公告)日: 2022-02-18
- 发明人: 王艳春 , 周亮
- 申请人: 比亚迪半导体股份有限公司 , 宁波比亚迪半导体有限公司
- 申请人地址: 广东省深圳市大鹏新区葵涌街道延安路1号;
- 专利权人: 比亚迪半导体股份有限公司,宁波比亚迪半导体有限公司
- 当前专利权人: 比亚迪半导体股份有限公司,宁波比亚迪半导体有限公司
- 当前专利权人地址: 广东省深圳市大鹏新区葵涌街道延安路1号;
- 代理机构: 深圳众鼎专利商标代理事务所
- 代理商 吴英铭
- 主分类号: H01L29/868
- IPC分类号: H01L29/868 ; H01L29/47 ; H01L21/329
摘要:
本发明提出了快恢复二极管及制备方法、电子设备。该快恢复二极管包括:衬底,所述衬底中形成有欧姆接触区;外延层,所述外延层设置在所述衬底上;离子掺杂区,所述离子掺杂区设置在所述外延层中远离所述衬底的一侧;第一金属区,所述第一金属区设置在所述外延层中,且所述第一金属区与所述离子掺杂区相邻设置,所述第一金属区与所述外延层之间形成肖特基接触;第一电极,所述第一电极设置在所述外延层远离所述衬底一侧的表面上;以及第二电极,所述第二电极设置在所述衬底远离所述外延层的一侧。由此,可以使该快恢复二极管具有较快的反向恢复时间、较小的正向导通压降以及较大的恢复软度。
公开/授权文献
- CN109148605A 快恢复二极管及制备方法、电子设备 公开/授权日:2019-01-04
IPC分类: