发明授权
CN109166823B 阵列基板的制作方法、阵列基板以及显示装置
失效 - 权利终止
- 专利标题： 阵列基板的制作方法、阵列基板以及显示装置
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申请号： CN201810966838.4申请日： 2018-08-23
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公开(公告)号： CN109166823B公开(公告)日： 2020-10-23
- 发明人: 刘军 , 闫梁臣 , 周斌 , 方金钢 , 李伟 , 宋威 , 胡迎宾
- 申请人： 合肥鑫晟光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
- 申请人地址： 安徽省合肥市新站区工业园内
- 专利权人： 合肥鑫晟光电科技有限公司,京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人： 合肥鑫晟光电科技有限公司,京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人地址： 安徽省合肥市新站区工业园内
- 代理机构： 北京律智知识产权代理有限公司
- 代理商 袁礼君; 阚梓瑄
- 主分类号： H01L21/77
- IPC分类号： H01L21/77
摘要：
本发明涉及显示器技术领域，提出一种阵列基板的制作方法，该方法包括：形成一初始栅极，其中，所述初始栅极的边沿具有坡面；对所述初始栅极边沿的坡面以及所述坡面向内延伸的部分平面进行预设厚底的刻蚀，从而减小所述初始栅极坡面的坡角。本公开通过对所述初始栅极边沿的坡面以及所述坡面向内延伸的部分平面进行预设厚底刻蚀，减小了初始栅极边沿坡面的坡角，从而减小了初始栅极与层间绝缘层之间出现断裂或空隙的概率。
公开/授权文献
- CN109166823A 阵列基板的制作方法、阵列基板以及显示装置 公开/授权日：2019-01-08
IPC分类:
