发明授权
- 专利标题: 柔性基底及其制造方法、显示装置
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申请号: CN201811117004.2申请日: 2018-09-25
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公开(公告)号: CN109273501B公开(公告)日: 2020-08-21
- 发明人: 蒋卓林
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司
- 代理商 刘小鹤
- 主分类号: H01L27/32
- IPC分类号: H01L27/32 ; H01L51/50 ; H01L51/52
摘要:
本发明公开一种柔性基底及其制造方法、显示装置,属于显示技术领域。柔性基底包括依次叠加的多个基底结构层,多个基底结构层中的至少一个基底结构层包括依次叠加的有机层、无机层和光子晶体层。本发明有助于解决显示装置的结构复杂的问题,简化显示装置的结构。本发明用于柔性显示。
公开/授权文献
- CN109273501A 柔性基底及其制造方法、显示装置 公开/授权日:2019-01-25
IPC分类: