本发明公开了一种薄膜监测装置和薄膜监测方法，属于薄膜技术领域。所述薄膜监测装置包括：壳体、晶振、晶振遮挡组件和晶振监测组件；所述晶振和所述晶振遮挡组件位于所述壳体中，所述壳体上设置有开口，所述晶振遮挡组件位于所述开口和所述晶振之间，所述晶振遮挡组件用于在进行镀膜时，减少与所述晶振接触的膜材蒸汽；所述晶振监测组件与所述晶振连接。本发明通过位于晶振和壳体的开口之间的遮挡组件在进行镀膜时，遮挡部分膜材蒸汽以减少与晶振接触的膜材蒸汽，进而降低了晶振上的薄膜的沉积速度。解决了相关技术中薄膜监测装置的寿命较短的问题。达到了提高薄膜监测装置的寿命的效果。