Invention Grant
- Patent Title: 光照射装置
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Application No.: CN201811041553.6Application Date: 2018-09-07
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Publication No.: CN109469838BPublication Date: 2023-11-14
- Inventor: 出岛孚
- Applicant: 株式会社艾泰克系统
- Applicant Address: 日本神奈川县
- Assignee: 株式会社艾泰克系统
- Current Assignee: 株式会社艾泰克系统
- Current Assignee Address: 日本神奈川县
- Agency: 北京市中咨律师事务所
- Agent 徐健; 段承恩
- Main IPC: F21K9/20
- IPC: F21K9/20 ; F21V13/04 ; F21V14/04 ; F21Y115/10
Abstract:
提供一种能够使照射到照射位置的光量增加且实现光损失降低的光照射装置。光照射装置具备:棒状透镜(10),在X方向上延伸且具有在与X方向正交的Y方向上有曲率的凸曲面,将照射到凸曲面的光在Y方向上进行聚光;第一LED阵列(21),在X方向上排列LED,向凸曲面中的Y方向上的第一预定范围(A1)照射光;第二LED阵列(22),在X方向上排列LED,向凸曲面中的Y方向上的第二预定范围(A2)照射光;以及反射构件(42),对通过棒状透镜(10)后的来自第二LED阵列(22)的光进行反射,反射构件(42)能够使通过棒状透镜(10)后的来自第二LED阵列(22)的光向通过棒状透镜(10)后的来自第一LED阵列(21)的光呈带状地照射的预定照射位置呈带状地照射。
Public/Granted literature
- CN109469838A 光照射装置 Public/Granted day:2019-03-15
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