ZnO/GaN异质结纳米线光开关及其制备方法
Abstract:
本公开提供一种ZnO/GaN异质结纳米线光开关及其制备方法,该ZnO/GaN异质结纳米线光开关包括:硅衬底、二氧化硅绝缘层以及ZnO/GaN异质结纳米线;二氧化硅绝缘层生长于硅衬底上;ZnO/GaN异质结纳米线设置于二氧化硅绝缘层上,沿其长度方向分为:ZnO纳米线和GaN纳米线,ZnO纳米线远离异质结界面的一端设置有源电极,异质结界面处设置有漏电极;GaN纳米线靠近异质结界面的一端与漏电极连接,另一端设置有栅电极。本公开提供的ZnO/GaN异质结纳米线光开关及其制备方法利用ZnO纳米线优良的光敏效应,采用GaN纳米线发出的紫外光激发ZnO纳米线,调节ZnO纳米线光电导,实现栅极对源漏电流大小的有效控制,达到制作异质结纳米线光开关的目的。
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