Invention Grant
- Patent Title: 一种高可靠性CVD石墨烯透明红外发射膜及其制备方法
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Application No.: CN201811378898.0Application Date: 2018-11-19
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Publication No.: CN109526073BPublication Date: 2021-06-08
- Inventor: 姜浩 , 徐鑫 , 马金鑫 , 王仲勋 , 史浩飞 , 张雪峰
- Applicant: 重庆墨希科技有限公司
- Applicant Address: 重庆市九龙坡区凤笙路15号附3号
- Assignee: 重庆墨希科技有限公司
- Current Assignee: 重庆墨希科技有限公司
- Current Assignee Address: 重庆市九龙坡区凤笙路15号附3号
- Agency: 北京元本知识产权代理事务所
- Agent 黎昌莉
- Main IPC: H05B3/14
- IPC: H05B3/14 ; H05B3/34 ; C09D7/63 ; C09D125/18 ; C09D129/04 ; C09D133/02 ; C09D171/02

Abstract:
本发明公开了一种高可靠性CVD石墨烯透明红外发射膜及其制备方法,其通过在石墨烯层和基底层之间设置一个附着力增强层,且该附着力增强层具有特定的结构,其具有柔顺的主链结构,且侧基为高极性基团,因此,其与石墨烯能够在分子尺度充分贴近,并通过分子链的协调运动,使得附着力增强层的极性基团最大程度地与石墨烯晶界缺陷形成强氢键作用,并通过氢键的断裂吸收传递至界面的应力,从而避免承受外力状态下单层石墨烯薄膜结构的破损;应力消失后,氢键又可逆的形成,因而提供了一种长效的界面作用力增强效果,保障红外发射膜的可靠性。
Public/Granted literature
- CN109526073A 一种高可靠性CVD石墨烯透明红外发射膜及其制备方法 Public/Granted day:2019-03-26
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