发明公开
- 专利标题: 一种高分辨率放射线检测元件及其制备方法
-
申请号: CN201811601535.9申请日: 2018-12-26
-
公开(公告)号: CN109541669A公开(公告)日: 2019-03-29
- 发明人: 张超 , 罗杰
- 申请人: 北京纳米维景科技有限公司
- 申请人地址: 北京市海淀区北清路68号院1号楼一层1-06
- 专利权人: 北京纳米维景科技有限公司
- 当前专利权人: 北京纳米维景科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市海淀区北清路68号院1号楼一层1-06
- 代理机构: 北京汲智翼成知识产权代理事务所
- 代理商 陈曦; 王鹏丽
- 主分类号: G01T1/202
- IPC分类号: G01T1/202
摘要:
本发明公开了一种高分辨率放射线检测元件及其制备方法。高分辨率放射线检测元件包括可见光成像系统、闪烁体和具有高可见光吸收率的防水层,防水层涂敷在闪烁体表面及闪烁体边缘附近一定区域内的基板表面。本发明所提供的高分辨率放射线检测元件,通过将具有高可见光吸收率的防水层涂敷在闪烁体的表面,一次镀膜同时提供防水保护层和可见光吸收层,工艺简单,工时短;并且,通过防水层吸收可见光,减小可见光的散射,进一步提高放射线检测元件的分辨率。上述高分辨率放射线检测元件,可以用于对射线剂量不敏感的高精度探测应用。