发明公开
- 专利标题: 一种可降低蓝光危害的复合膜、制备工艺及背光模组
- 专利标题(英): Composite film capable of reducing blue light hazard, preparation process and backlight module
-
申请号: CN201811550367.5申请日: 2018-12-18
-
公开(公告)号: CN109633792A公开(公告)日: 2019-04-16
- 发明人: 曾照明 , 邱登明 , 谢超英 , 苏凤宜 , 姚述光
- 申请人: 广东晶科电子股份有限公司
- 申请人地址: 广东省广州市南沙区环市大道南33号
- 专利权人: 广东晶科电子股份有限公司
- 当前专利权人: 广东晶科电子股份有限公司
- 当前专利权人地址: 广东省广州市南沙区环市大道南33号
- 代理机构: 广州新诺专利商标事务所有限公司
- 代理商 罗毅萍; 李小林
- 主分类号: G02B1/00
- IPC分类号: G02B1/00 ; G02B5/20 ; G02B5/04 ; F21V9/40 ; F21V5/00 ; F21K9/69 ; G02B6/00 ; G02B1/04
摘要:
本发明公开了一种可降低蓝光危害的复合膜,包括上基层、下基层、设于所述上基层和下基层之间的由光子晶体构成的微晶结构层,所述微晶结构层能够透射波长在450nm以上的光线,同时能够将波长在450nm以下的光线部分或全部反射回去。还公开了该复合膜的制备工艺,包括以下步骤:制备微晶结构层:分别制备上基层和下基层:将上基层、微晶结构层和下基层叠合为一体,其中,微晶结构层位于上基层和下基层之间,增光结构位于表层。还公开了一种背光模组,包括上述的复合膜。本发明的复合膜,其结构简单,并能够精准的阻隔450nm以下波段蓝光,同时不会导致偏色。
公开/授权文献
- CN109633792B 一种可降低蓝光危害的复合膜、制备工艺及背光模组 公开/授权日:2024-03-19
IPC分类:
G | 物理 |
G02 | 光学 |
G02B | 光学元件、系统或仪器 |
G02B1/00 | 按制造材料区分的光学元件;用于光学元件的光学涂层 |