发明授权
- 专利标题: 一种模拟蒸镀的试验装置和试验系统
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申请号: CN201910041187.2申请日: 2019-01-16
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公开(公告)号: CN109655300B公开(公告)日: 2021-04-30
- 发明人: 姚阳 , 王志强 , 杨凡 , 代科 , 郑小龙
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 代理机构: 北京中博世达专利商标代理有限公司
- 代理商 申健
- 主分类号: G01M99/00
- IPC分类号: G01M99/00 ; G05F7/00 ; C23C14/04 ; C23C14/24 ; C23C14/54
摘要:
本发明涉及蒸镀技术领域,尤其涉及一种模拟蒸镀的试验装置和试验系统。用以解决相关技术中通过经验对磁板的吸附力进行调节使得对位不准确,以及通过蒸镀试验对磁板的吸附力进行调节浪费试验基板,增加成本的问题。一种模拟蒸镀的试验装置,包括:支撑结构,通过支撑结构依次支撑的金属掩膜版和试验基板,试验基板的上方还设置有磁板,金属掩膜版的下方设置有可移动发光组件,可移动发光组件用于模拟蒸镀线源,在移动过程中将所发出的线光源透过金属掩膜版上的开口照射到试验基板上;试验基板和所述磁板之间还设置有感光装置,感光装置用于对透过金属掩膜版上的开口照射到试验基板上形成的模拟图案的位置进行采集。
公开/授权文献
- CN109655300A 一种模拟蒸镀的试验装置和试验系统 公开/授权日:2019-04-19