本发明公开了一种回转支承外圈滚道的热处理装置，包括冷却筒，所述冷却筒的上端对称设置有两个支撑柱，两个所述支撑柱上通过横梁设置有能够上下升降的加热单元；所述冷却筒分为上下两层，所述冷却筒的上层含有冷却液，所述冷却筒的上层内还设置有能够上下移动且能够转动的定位单元。本发明利用定位单元，能放置多种尺寸的回转支承外圈，并同时对这些回转支承外圈进行热处理，大大提高了回转支承外圈滚道热处理的效率；此外本发明将加热、保温以及冷却集中在一个设备上，使得三个热处理的工艺具有较好的连续性，保证了热处理的效果。