本发明的成膜装置包括基板保持单元和基板吸附机构，所述基板保持单元包括用于支承基板的周缘部的支承部，所述基板吸附机构设置于所述支承部的上方，用于吸附基板，所述支承部包括设置于第一方向的第一支承部件，和以与所述第一支承部件相向的方式设置于所述第一方向的第二支承部件，所述基板吸附机构包括以沿着所述第一方向延伸的方式设置于与所述第一支承部件对应的位置的第一吸附部，和以沿着第一方向延伸的方式设置于与所述第二支承部件对应的位置的第二吸附部，所述第二支承部件能够沿着与所述第一方向交差的第二方向移动。