Invention Grant
- Patent Title: 组合物和使用该组合物的设备的制造方法
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Application No.: CN201780063876.2Application Date: 2017-10-13
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Publication No.: CN109843853BPublication Date: 2022-09-20
- Inventor: 菅优介 , 榎本智至
- Applicant: 东洋合成工业株式会社
- Applicant Address: 日本国千叶县市川市上妙典1603番地
- Assignee: 东洋合成工业株式会社
- Current Assignee: 东洋合成工业株式会社
- Current Assignee Address: 日本国千叶县市川市上妙典1603番地
- Agency: 北京汇思诚业知识产权代理有限公司
- Agent 龚敏; 王刚
- Priority: 2016-203780 20161017 JP 2017-033234 20170224 JP
- International Application: PCT/JP2017/037266 2017.10.13
- International Announcement: WO2018/074382 JA 2018.04.26
- Date entered country: 2019-04-16
- Main IPC: C07C381/12
- IPC: C07C381/12 ; C07C43/315 ; C07D317/22 ; C07D333/76 ; C09K3/00 ; G03F7/004 ; G03F7/039 ; G03F7/38
Abstract:
本发明提供适用于使用电子束或极紫外线等第1活性能量线和UV等第2活性能量线这2种活性能量线的光刻工艺用抗蚀剂组合物的、高敏感度且LWR等图案特性优异的鎓盐和组合物。根据本发明，提供由下述通式(1)、下述通式(2)、下述通式(11)、和下述通式(12)中的任一者表示的鎓盐。【化1】
Public/Granted literature
- CN109843853A 组合物和使用该组合物的设备的制造方法 Public/Granted day:2019-06-04
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