Invention Grant
- Patent Title: 存储阵列结构及制备方法、存储器及写入方法和读出方法
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Application No.: CN201910150968.5Application Date: 2019-02-28
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Publication No.: CN109860192BPublication Date: 2020-10-20
- Inventor: 郎莉莉 , 叶力
- Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
- Applicant Address: 上海市长宁区长宁路865号
- Assignee: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
- Current Assignee: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
- Current Assignee Address: 上海市长宁区长宁路865号
- Agency: 上海泰能知识产权代理事务所
- Agent 宋缨
- Main IPC: H01L27/11521
- IPC: H01L27/11521 ; H01L27/18 ; H01L27/22
Abstract:
本发明提供一种存储阵列结构及制备方法、存储器及写入方法和读出方法,阵列结构包括:至少一个存储单元,包括叠置串联的超导器件及磁性存储器件;至少一个超导上电极,设置于存储单元上方,至少一个超导下电极,设置于存储单元下方,至少一个超导字线,设置于存储单元上方,或者设置于存储单元下方,超导字线靠近存储单元中的超导器件设置。本发明将磁性存储器件与超导集成电路有机结合,利用超导器件实现电路的开关效果,从而替代CMOS逻辑电路,可以实现存储器在低温下的工作,保证MRAM在低的工作电压下实现高速、高密度存储,基于不同的写入方式实现上述工作,形成适用于超导逻辑制程的信息读取方式,结构设计简单,有利于减少刻蚀次数。
Public/Granted literature
- CN109860192A 存储阵列结构及制备方法、存储器及写入方法和读出方法 Public/Granted day:2019-06-07
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IPC分类: