提供了有机发光设备及其制造方法。所述方法包括：在基底上形成第一像素电极和第二像素电极；暴露第一像素电极和第二像素电极的上表面；形成覆盖第一像素电极和第二像素电极的边缘的像素限定层；顺序地形成第一剥离层、第一形状记忆合金层和第一光致抗蚀剂；通过使第一剥离层、第一形状记忆合金层和第一光致抗蚀剂图案化来形成暴露第一像素电极的上表面的第一开口；在第一像素电极和第一光致抗蚀剂上形成包括第一发射层的第一有机功能层；在第一开口中，使第一形状记忆合金层的端部在远离基底的水平表面的方向上变形；在第一有机功能层上方形成第一保护层；以及去除剩余的第一剥离层。