发明公开
- 专利标题: 基于模运算的小波系数调整水印方法
- 专利标题(英): A wavelet coefficient adjustment watermarking method based on modular operation
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申请号: CN201910275376.6申请日: 2019-04-08
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公开(公告)号: CN109903215A公开(公告)日: 2019-06-18
- 发明人: 陈青 , 郭功勋 , 孙彦飞 , 宗偲琦
- 申请人: 上海理工大学
- 申请人地址: 上海市杨浦区军工路516号
- 专利权人: 上海理工大学
- 当前专利权人: 上海理工大学
- 当前专利权人地址: 上海市杨浦区军工路516号
- 代理机构: 上海申汇专利代理有限公司
- 代理商 徐颖
- 主分类号: G06T1/00
- IPC分类号: G06T1/00
摘要:
本发明涉及一种基于模运算的小波系数调整水印方法,将小波和SVD相结合,首先根据载体图像携带信息的不同特征,选择像素点动态范围变化较小的平滑区进行二级小波变换,将对应小波系数进行奇异值分解,并针对常规SVD对图像系数改动较大,导致图像鲁棒性不够好的问题,利用模运算减小其系数的改变幅度,实现水印的嵌入。该方法提高了图像的质量与水印的鲁棒性,并对于一般的信号处理和几何攻击有很强的鲁棒性,尤其是抗旋转攻击方面效果突出。