发明授权
- 专利标题： 涂覆设备
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申请号： CN201880004215.7申请日： 2018-06-27
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公开(公告)号： CN109906527B公开(公告)日： 2021-10-29
- 发明人: 金佑河 , 金仁成 , 文日载 , 安炳勳 , 梁眐 , 崔相勳
- 申请人： 株式会社LG化学
- 申请人地址： 韩国首尔
- 专利权人： 株式会社LG化学
- 当前专利权人： 株式会社LG新能源
- 当前专利权人地址： 韩国首尔
- 代理机构： 北京律诚同业知识产权代理有限公司
- 代理商 徐金国
- 优先权： 10-2017-0089132 20170713 KR
- 国际申请： PCT/KR2018/007300 2018.06.27
- 国际公布： WO2019/013474 KO 2019.01.17
- 进入国家日期： 2019-04-30
- 主分类号： H01M4/04
- IPC分类号： H01M4/04 ; B05C5/02 ; B05C11/00 ; B05C13/02
摘要：
披露了一种用于制造电极的涂覆设备，其在涂覆工艺中具有降低的缺陷率。涂覆设备包括：模具单元，所述模具单元具有引入电极浆料的入口和用于容纳所引入的电极浆料的内部空间；垫片单元，所述垫片单元安装在模具单元中并配置成与模具单元一起形成出口，使得电极浆料经出口被排出；和覆盖构件，所述覆盖构件配置成围绕模具单元和垫片单元的外表面，使得电极浆料不会在除出口之外的外表面处泄漏。
公开/授权文献
- CN109906527A 涂覆设备 公开/授权日：2019-06-18