发明公开
- 专利标题: 一种背光源及其制备方法和背光模组
- 专利标题(英): Backlight source, preparation method thereof and backlight module
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申请号: CN201910341273.5申请日: 2019-04-25
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公开(公告)号: CN109946882A公开(公告)日: 2019-06-28
- 发明人: 李玉成 , 葛世康 , 李旭 , 潘飞 , 张贺宁 , 李志 , 涂旭峰 , 张竹青 , 戴威
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 重庆京东方光电科技有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,重庆京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,重庆京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京中博世达专利商标代理有限公司
- 代理商 申健
- 主分类号: G02F1/13357
- IPC分类号: G02F1/13357
摘要:
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种背光源及其制备方法和背光模组。用以将点光源转换成面光源,并同时避免从远离该电路衬底一侧入射的光线对荧光层进行再次激发而产生色偏。一种背光源,包括:电路衬底,以及设置在电路衬底上的多个发光二极管,相邻的两个发光二极管之间留有间隙,且任意相邻的两个发光二极管之间的电路衬底上设置有反光层;每个发光二极管包括出光方向朝向远离电路衬底一侧的发光晶片,以及设置在发光晶片出光侧的荧光层;背光源还包括设置在发光二极管出光侧的光线阻挡结构,用于将发光二极管发出的光反射至反光层,并经由反光层反射后射出,以及对从远离电路衬底一侧入射的光线进行阻挡,防止光线照射到荧光层上。
公开/授权文献
- CN109946882B 一种背光源及其制备方法和背光模组 公开/授权日:2022-01-11
IPC分类: