Invention Publication
- Patent Title: 静电吸盘、成膜装置、基板的保持及分离方法、成膜方法及电子设备的制造方法
- Patent Title (English): ELECTROSTATIC CHUCK, FILM FORMING APPARATUS, SUBSTRATE HOLDING AND SEPARATING METHOD, FILM FORMING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE
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Application No.: CN201811010711.1Application Date: 2018-08-31
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Publication No.: CN109957775APublication Date: 2019-07-02
- Inventor: 柏仓一史 , 石井博 , 细谷映之
- Applicant: 佳能特机株式会社 , 阿奥依株式会社
- Applicant Address: 日本新泻县;
- Assignee: 佳能特机株式会社,阿奥依株式会社
- Current Assignee: 佳能特机株式会社,阿奥依株式会社
- Current Assignee Address: 日本新泻县;
- Agency: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- Agent 刘日华
- Priority: 10-2017-0180339 20171226 KR
- Main IPC: C23C14/50
- IPC: C23C14/50 ; C23C14/24 ; H01L51/56
Abstract:
本发明的静电吸盘，包括：包括电极部的基板保持部；对所述电极部施加电压的电压施加部；对由所述电压施加部向所述电极部施加的电压进行控制的电压控制部，所述静电吸盘包括多个基板保持部，所述电压施加部对所述多个基板保持部施加用于保持基板的第一电压以及用于分离基板的第二电压，所述电压控制部对每一个所述基板保持部独立地控制所述第二电压的施加。
Public/Granted literature
- CN109957775B 静电吸盘、成膜装置、基板的保持及分离方法、成膜方法 Public/Granted day:2022-10-21
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IPC分类:
