发明授权
- 专利标题： 波导过渡结构和制造方法
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申请号： CN201780073967.4申请日： 2017-11-29
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公开(公告)号： CN110024215B公开(公告)日： 2022-06-07
- 发明人: Y·切特里特 , J·D·里克曼 , J·B·德里斯科尔 , H·弗里希 , L·廖
- 申请人： 英特尔公司
- 申请人地址： 美国加利福尼亚
- 专利权人： 英特尔公司
- 当前专利权人： 英特尔公司
- 当前专利权人地址： 美国加利福尼亚
- 代理机构： 永新专利商标代理有限公司
- 代理商 林金朝; 王英
- 优先权： 15/393,696 20161229 US
- 国际申请： PCT/US2017/063652 2017.11.29
- 国际公布： WO2018/125485 EN 2018.07.05
- 进入国家日期： 2019-05-29
- 主分类号： H01P3/12
- IPC分类号： H01P3/12
摘要：
本公开的一些实施例描述了一种锥形波导和一种制造锥形波导的方法，其中，锥形波导包括第一和第二波导，其中，第一和第二波导在波导重叠区域中重叠。第一和第二波导在与电磁辐射通过所述锥形波导传播的预期方向垂直的至少一个维度上具有不同尺寸。跨越波导重叠区域，波导之一逐渐过渡或逐渐变窄到另一个。
公开/授权文献
- CN110024215A 波导过渡结构和制造方法 公开/授权日：2019-07-16
