发明公开
- 专利标题: 电子束流能量密度分布测量系统及方法
- 专利标题(英): Electron beam current energy density distribution measurement system and method
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申请号: CN201910300519.4申请日: 2019-04-15
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公开(公告)号: CN110031886A公开(公告)日: 2019-07-19
- 发明人: 林峰 , 赵德陈 , 张磊 , 郭超 , 马旭龙
- 申请人: 清华大学 , 天津清研智束科技有限公司
- 申请人地址: 北京市海淀区清华园
- 专利权人: 清华大学,天津清研智束科技有限公司
- 当前专利权人: 清华大学,天津清研智束科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市海淀区清华园
- 代理机构: 北京清亦华知识产权代理事务所
- 代理商 张润
- 主分类号: G01T1/29
- IPC分类号: G01T1/29
摘要:
本发明公开了一种电子束流能量密度分布测量系统及方法,其中,该系统包括:电子束发生偏转聚焦装置用于控制电子束的产生、聚焦和偏转;电子束能量密度测量装置用于测量漏过电子束能量密度测量装置顶部直角缺口的电子束流强度,并记录电子束的偏转信号;控制器用于控制电子束发生偏转聚焦装置产生、聚焦和偏转电子束,同时控制电子束能量密度测量装置采集电子束强度信号和记录电子束偏转信号;数据处理装置用于将电子束流强度信号根据电子束偏转信号构建成二维数据矩阵,以采用二阶微分方法计算获得电子束能量密度分布。该系统简化测量装置的加工,无需假定电子束能量密度圆周对称,也可以准确测量不规则的电子束流能量密度分布。
公开/授权文献
- CN110031886B 电子束流能量密度分布测量系统及方法 公开/授权日:2020-08-14