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发明公开
CN110035722A 用于蚀刻吸收结构的方法 有权

  • 专利标题： 用于蚀刻吸收结构的方法
  • 专利标题（英）： METHOD FOR ETCHING AN ABSORBENT STRUCTURE
  • 申请号： CN201780075200.5
    申请日： 2017-12-18
  • 公开(公告)号： CN110035722A
    公开(公告)日： 2019-07-19
  • 发明人: G.A.维恩斯 , W.M.哈巴德 , K.A.阿罗拉 , N.R.惠特利 , M.C.科利尔
  • 申请人： 宝洁公司
  • 申请人地址： 美国俄亥俄州辛辛那提
  • 专利权人： 宝洁公司
  • 当前专利权人： 宝洁公司
  • 当前专利权人地址： 美国俄亥俄州辛辛那提
  • 代理机构： 北京市柳沈律师事务所
  • 代理商 葛青; 宋莉
  • 优先权： 62/437,208 2016.12.21 US
  • 国际申请： PCT/US2017/066943 2017.12.18
  • 国际公布： WO2018/118747 EN 2018.06.28
  • 进入国家日期： 2019-05-30
  • 主分类号： A61F13/15
  • IPC分类号： A61F13/15
用于蚀刻吸收结构的方法
摘要：
本发明公开了一种流体蚀刻吸收物层的方法。所述方法包括提供吸收物层；提供流体蚀刻方法，所述流体蚀刻方法包括一个或多个流体喷嘴、载带和模版；将流体从所述流体喷嘴通过所述模版的开孔喷出；以及d)使所述吸收物层裂缝。
摘要（英）：

A method of fluid etching an absorbent stratum is disclosed. The method includes providing an absorbent stratum; providing a fluid etching process comprising one or more fluid jets, a carrier belt, and a stencil; c) expelling fluid from the fluid jets through the open apertures of the stencil; and d) fissuring the absorbent stratum.

公开/授权文献
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