Invention Grant
- Patent Title: 一种掩膜版、掩膜系统及蒸镀掩膜方法
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Application No.: CN201910493702.0Application Date: 2019-06-06
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Publication No.: CN110093584BPublication Date: 2021-03-02
- Inventor: 杨盛际
- Applicant: 京东方科技集团股份有限公司
- Applicant Address: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- Assignee: 京东方科技集团股份有限公司
- Current Assignee: 京东方科技集团股份有限公司
- Current Assignee Address: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- Agency: 北京中博世达专利商标代理有限公司
- Agent 申健
- Main IPC: C23C14/24
- IPC: C23C14/24 ; C23C14/04
Abstract:
本发明实施例提供一种掩膜版、掩膜系统及蒸镀掩膜方法,涉及掩膜版领域,能够减少蒸镀材料的浪费;该掩膜版包括掩膜图案区以及位于掩膜图案区四周的非掩膜图案区,掩膜版包括依次设置的第一基板、导光图案层、垂直导热层;导光图案层至少部分位于掩膜图案区,垂直导热层至少覆盖掩膜图案区;垂直导热层背离第一基板一侧的表面作为掩膜版的出光面;导光图案层包括:多种不同朝向的调光面;掩膜版接收的不同方向的入射光线,经导光图案层的不同的调光面进行调光后,在出光面具有不同的出光区域。
Public/Granted literature
- CN110093584A 一种掩膜版、掩膜系统及蒸镀掩膜方法 Public/Granted day:2019-08-06
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