发明公开

管理单元清洗设施
摘要:
本发明在用于公共卫生、化妆品和私人或工业清洗的设施的领域中。根据本发明的设施(1)包括供水系统(17,18)、出口单元(6)、消耗品单元(30)和控制单元(20)。设施(1)是低通过流速设施。控制单元(20)包括适合于测量至少一个值的传感器(16.1-16.5)、适合于输入设定点的用户接口单元(21)和配置成考虑设定点而修改设施(1)的操作参数的闭合回路控制单元(22)。
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