发明公开
CN110129722A 掩膜板组件及其制备方法
审中-实审
- 专利标题: 掩膜板组件及其制备方法
- 专利标题(英): Mask plate module and preparation method thereof
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申请号: CN201910544833.7申请日: 2019-06-21
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公开(公告)号: CN110129722A公开(公告)日: 2019-08-16
- 发明人: 杨博文 , 张文畅 , 万宝红 , 张忠忠 , 洪良 , 陈铖
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京市立方律师事务所
- 代理商 张筱宁; 宋海斌
- 主分类号: C23C14/04
- IPC分类号: C23C14/04 ; C23C14/24 ; H01L51/56
摘要:
本申请提供了一种掩膜板组件及其制备方法。该掩膜板组件包括:框架和至少两个第一掩膜条;各第一掩膜条设置于框架的两个相对边框之间;每个第一掩膜条相对于参照位置的偏移量均在目标偏移范围内。本申请实施例中的每个第一掩膜条的偏移量均在目标偏移范围内,在框架产生类平等四边形形变的情况下,所形成的掩膜板组件的整体形变减小,以减小或抵挡掉框架形变的影响,应用本申请实施例提供的掩膜板组件,可提高蒸镀单元的PPA,提升掩膜板组件的使用效果和产品良率。
IPC分类: