发明授权
- 专利标题: 一种芍药苷分子印迹聚合物及其制备与应用
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申请号: CN201910398917.4申请日: 2019-05-14
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公开(公告)号: CN110183663B公开(公告)日: 2022-07-19
- 发明人: 张诚 , 郑晓周 , 王平
- 申请人: 浙江工业大学
- 申请人地址: 浙江省杭州市下城区潮王路18号
- 专利权人: 浙江工业大学
- 当前专利权人: 浙江工业大学
- 当前专利权人地址: 浙江省杭州市下城区潮王路18号
- 代理机构: 杭州天正专利事务所有限公司
- 代理商 黄美娟; 李世玉
- 主分类号: C08G77/26
- IPC分类号: C08G77/26 ; C08G77/06 ; B01J20/26 ; B01J20/30 ; B01D15/08
摘要:
本发明公开了一种芍药苷分子印迹聚合物及其制备与应用,所述聚合物按如下方法制备:取硅胶,分散在无水乙醇中,然后加入交联剂,功能单体和苯基三甲氧基硅烷,室温振荡30min后,加入芍药苷乙醇溶液,二次蒸馏水,浓HCl,室温下反应4h,过滤,滤饼先用无水乙醇洗涤,干燥,然后用体积比9:1的甲醇-乙酸洗涤至洗涤液在230nm处无紫外吸收,再用甲醇洗涤除去残留的乙酸,最后干燥至恒重,即得到芍药苷分子印迹聚合物;本发明采用溶胶-凝胶法制备具有双功能单体的芍药苷分子印迹聚合物,能很好地从芍药花提取液中富集芍药苷,富集率最高可达90%,并且能够去除芍药花提取液中的其他杂质。
公开/授权文献
- CN110183663A 一种芍药苷分子印迹聚合物及其制备与应用 公开/授权日:2019-08-30