一种压印设备包括具有在其中限定的多于一个的纳米特征的硅母体。抗粘层涂覆硅母体，该抗粘层包括具有环硅氧烷的分子，该环硅氧烷具有至少一个硅烷官能团。一种方法包括通过以下来形成母体模板：在硅母体上沉积制剂，该硅母体包括在其中限定的多于一个的纳米特征，该制剂包含溶剂和具有环硅氧烷的分子，该环硅氧烷具有至少一个硅烷官能团；以及固化该制剂，从而在硅母体上形成抗粘层，该抗粘层包含所述分子。所述方法还包括在母体模板的抗粘层上沉积硅基工作印模材料；固化所述硅基工作印模材料以形成包括该多于一个的纳米特征的复制阴模的工作印模；以及从母体模板中释放所述工作印模。