- 专利标题: 耐受高浓度螺旋霉素的厌氧氨氧化颗粒污泥的培养方法
-
申请号: CN201910465251.X申请日: 2019-05-30
-
公开(公告)号: CN110255709A公开(公告)日: 2019-09-20
- 发明人: 范念斯 , 吴静 , 赵依恒 , 余烨颖 , 何宜俊 , 金仁村
- 申请人: 杭州师范大学
- 申请人地址: 浙江省杭州市余杭区仓前街道海曙路58号
- 专利权人: 杭州师范大学
- 当前专利权人: 杭州师范大学
- 当前专利权人地址: 浙江省杭州市余杭区仓前街道海曙路58号
- 代理机构: 杭州天勤知识产权代理有限公司
- 代理商 胡红娟
- 主分类号: C02F3/28
- IPC分类号: C02F3/28 ; C02F3/34 ; C02F101/16
摘要:
本发明公开了一种耐受高浓度螺旋霉素的厌氧氨氧化颗粒污泥的培养方法,包括:在厌氧氨氧化反应器进水中投加螺旋霉素,跟踪反应器出水变化;所述进水含有质量浓度比为1:0.9~1.1的亚硝氮和氨氮;根据反应器出水情况停止投加螺旋霉素,等比例降低进水中的氨氮和亚硝氮浓度,然后以等比例梯度增加进水氨氮和亚硝氮浓度的方式恢复反应器的运行性能;待反应器运行性能恢复后,再次投加螺旋霉素,反应器脱氮性能在波动后恢复稳定,完成耐受高浓度螺旋霉素的厌氧氨氧化颗粒污泥的培养。本发明通过“首次暴露——梯度恢复——再次暴露”的方法逐步诱导螺旋霉素抗性基因的变化,从而培育出耐受长期螺旋霉素干扰的厌氧氨氧化颗粒污泥。
公开/授权文献
- CN110255709B 耐受高浓度螺旋霉素的厌氧氨氧化颗粒污泥的培养方法 公开/授权日:2021-09-28