Invention Grant
- Patent Title: 包括光屏蔽膜的波导及其制造方法
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Application No.: CN201880010876.0Application Date: 2018-11-19
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Publication No.: CN110268193BPublication Date: 2020-10-02
- Inventor: 金雅琳 , 俞在贤 , 朴圣恩 , 金俊衡
- Applicant: 株式会社LG化学
- Applicant Address: 韩国首尔
- Assignee: 株式会社LG化学
- Current Assignee: 株式会社LG化学
- Current Assignee Address: 韩国首尔
- Agency: 北京鸿元知识产权代理有限公司
- Agent 陈英俊; 张云志
- Priority: 10-2017-0158454 20171124 KR
- International Application: PCT/KR2018/014172 2018.11.19
- International Announcement: WO2019/103415 KO 2019.05.31
- Date entered country: 2019-08-08
- Main IPC: G02B27/01
- IPC: G02B27/01
Abstract:
本发明涉及一种波导及其制造方法，所述波导包括形成在平面波导的边缘侧的切割面上的光屏蔽膜，该光屏蔽膜的厚度为2μm至120μm，基于厚度为1.0μm的光屏蔽膜，光密度(OD)为0.01至0.7，并且根据ASTM D3363标准，硬度为3H以上。
Public/Granted literature
- CN110268193A 包括光屏蔽膜的波导及其制造方法 Public/Granted day:2019-09-20
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